MUTECH Microsystems, litografía para microfabricación

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Desde hace más de un año y medio, Martín Sirena y Lucas Neñer, ambos investigadores del CONICET y doctores en física del Instituto Balseiro, se unieron para formar MUTECH Microsystems, una empresa radicada en Bariloche capaz de ofrecer una serie de equipos y herramientas de micro y nanofabricación litográfica para el desarrollo de sensores y dispositivos con múltiples aplicaciones.

El producto más importante de MUTECH Microsystems es el equipo μLaser, un sistema de litografía óptica directa, con un láser de 405 nanómetros, capaz de escribir sobre una superficie recubierta de resina fotosensible con una resolución de 0.8um píxeles al ser aplicado en grandes áreas: “Este es un desarrollo que surgió cuando Lucas estaba terminando su maestría, en el taller de su casa. Estábamos trabajando en la elaboración de un dispositivo y para avanzar necesitábamos de este instrumento. Al no disponer de uno similar, él decidió fabricarlo y luego de tres meses de trabajo, finalmente pudo terminarlo y hacerlo funcionar”, explica Martín, director de negocios de la empresa.

El paso siguiente que afrontaron sus integrantes fue la presentación del desarrollo en el concurso IB50K del Instituto Balseiro, donde obtuvieron el primer premio en 2017. El plan de negocio y la idea de empresa, elaborados para participar, más el premio económico recibido fueron los pilares fundamentales para montar la empresa y empezar a pensar la comercialización de los productos que hoy incluye una serie de equipos complementarios y la asesoría técnica en temas relacionados.

Para finalizar el Dr. Sirena concluyó: “Hoy por hoy, la empresa ya está consolidada y hemos realizado las primeras ventas en el país. El objetivo próximo, teniendo en cuenta el interés que han mostrado desde España y Estados Unidos, es exportar estos productos y servicios que ofrecemos, los cuales tienen la particularidad de ser muy eficaces pero, a la vez, de bajo costo de producción”.

Para más información sobre MUTECH Microsystems, consultar aquí.


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